Der Prozess der Reinigung mit Hochleistungsimpulslasern hängt von den Eigenschaften der vom Faserlaser erzeugten Lichtimpulse ab und basiert auf einer photophysikalischen Reaktion, die durch die Wechselwirkung zwischen dem Hochintensitätsstrahl, dem Kurzimpulslaser und der kontaminierten Schicht entsteht.
Die physikalischen Prinzipien lassen sich wie folgt zusammenfassen:
(1) Der vom Laser emittierte Strahl wird von der kontaminierten Schicht auf der zu behandelnden Oberfläche absorbiert.
(2) Die Absorption großer Energiemengen zur Bildung eines rasch expandierenden Plasmas (hochionisiertes instabiles Gas), das zu Stoßwellen führt;
(3) Durch die Stoßwelle werden die Schadstoffe zersplittert und abgestoßen.
4) Die Breite des Lichtimpulses muss kurz genug sein, um einen Hitzestau zu vermeiden, der die behandelte Oberfläche zerstört;
5) Das Plasma wird auf der Metalloberfläche erzeugt, wenn sich auf der Oberfläche Oxide befinden.
